Дълбочина на рязкост: Разлика между версии

СхемитеВъв [[фотолитография]]та е необходимо схемите на чиповете[[чип]]овете да се изобразяват с изключителна точност, като дори и малки неравности по повърхността на маската със схемите (wafer) променяпроменят дълбочината на рязкост., Сзащото помощтаразмерът наим големие изчисленияот ипорядъка химическона механичноширината почистванетона факторалиниите на изкривяванесхемата. Факторът на маскитеизкривяване биваможе да бъде намален до минимум с помощта на нарочна математическа корекция и механично и химическо почистване.