Разлика между версии на „CVD“

55 bytes added ,  преди 4 години
редакция без резюме
м (Робот: Преместване на 25 междуезикови препратки към Уикиданни, в d:q505668.)
'''CVD''' ({{lang-en|Chemical Vapour Deposition}}) (химичното вакуумно отлагане) е [[технология]] за [[химия|химическо]] отлагане на материали в паро-газова среда при висока температура. Използва се за отлагане на [[диелектрик|диелектрични]] [[тънки слоеве]] и поликристален [[силиций]].
 
'''Приложение на диелектричните слоеве:'''