MOS транзистор: Разлика между версии

Изтрито е съдържание Добавено е съдържание
м замяна с n-тире; козметични промени
BotNinja (беседа | приноси)
{{lang-en}} => {{lang|en}}
Ред 1:
{{без източници}}
[[Файл:MOSFET Structure.png|мини|Структура на MOS транзистор]]
'''MOS транзистор''' ({{lang-|en|'''M'''etal '''O'''xide '''S'''emiconductor – метал-оксид-полупроводник}}) е [[полеви транзистор]] с изолиран [[гейт]]. При полевия транзистор действието се основава на преместването на основните токоносители. При MOS транзистора управляващият електрод е изолиран от канала и от целия прибор с тънък слой [[силициев диоксид]]. Има много голямо [[входно съпротивление]], а действието му се основава на изменението на [[проводимост]]та на повърхностния слой под действието на [[електрическо поле|електрическото поле]].
 
MOS транзисторите биват два вида – транзистори с индуциран канал и транзистори с вграден канал. Транзисторите с р-подложка не се използват заради малкото им бързодействие и ниска шумоустойчивост.