Изтрито е съдържание Добавено е съдържание
Ted Masters (беседа | приноси) →Помощ: FYI |
Нова тема →Йонна имплантация |
||
Ред 17:
Как може да се създаде английска версия на страница отнасяща се за личност, която я няма в английската Уикипедия, но я има в българската? [[Потребител:The Hunter2k19|The Hunter2k19]] ([[Потребител беседа:The Hunter2k19|беседа]]) 21:58, 30 януари 2020 (UTC)
: Отговорено е на моята беседа. --[[Потребител:Ted Masters|Ted Masters]] ([[Потребител беседа:Ted Masters|беседа]]) 00:08, 31 януари 2020 (UTC)
== [[Йонна имплантация]] ==
Здравейте Кет!
Благодаря много за поправките, които правите в текстовете, написани от мен. Много се радвам на поправките на членуването - имам друг усет за неговото прилагане (очевидно грешен), но разбирам смисъла и причината на всяка поправка. В тази статия обаче има и смислова поправка, която води до грешно твърдение. Става дума за новото изречение:„При още по-малки енергии повърхността на подложката практически не се нарушава, но могат да се избиват атоми от подложката и това се използва за нанасяне на тънки слоеве по метода на йоннолъчево разпрашване.“
То замества моето:„При още по-малки енергии протича процесът на йонно-лъчевото нанасяне на слоеве, като при тези енергии повърхността на подложката практически не се нарушава.“
Ако се вгледате в двете, ще видите противоречието в своето - при малки енергии не се нарушава повърхността/избиват се атомите от подложката. В действителност йоните, които се отлагат/падат върху подложката са нискоенергетични и се получават чрез йонизиране на газобразното състояние на нужния материал, т.е. от плазма. Този метод се отличава от плазмените по това, че йоните (нужните) се екстрахират от плазмата и се фокусират в лъч, който сканира повърхността на подложката (рисува по нея), докато при плазменото отлагане на слоевете подложката е в директен контакт с йонизирания газ и тогава нещата имат малко по-сложна физика. При тези методи няма мишена, която да се разпрашва и нейният материал да се отлага като тънък слой върху някаква подложка.
Всъщност разпрашването става при доста големи енергии и това е отразено в изречението:„При много големи дози може да се прояви процесът на [[разпрашване]] – избиване на атомите от повърхността на мишената.“ Т.е. разпрашва се мишената, а нейния материал се отлага върху подложката,чиято повърхност наистина не се нарушава (в първо приближение).
Пиша толкова подробно, за да прецените евентуално, дали да се остави моето първоначално изречение или да се напише ново, по-ясно. Нещо като: „Още по-малките енергии се използват не за имплантация на йони, а при йонно-лъчевото нанасяне на слоеве, като при тези енергии повърхността на подложката практически не се нарушава.“ А може изречението въобще да се махне, за да не се обърква читателят. Честно казано, много години се занимавах с разни методи на отлагане на тънки слоеве, но не умея да пиша на разбираемо от всеки/базисно ниво и затова се ограничавам с преводи на готови статии в У. А има и обективни проблеми с терминологията, особено за някои съвременни методи.
Поздрави.--[[Потребител:Mmm-jun|Mmm-jun]] ([[Потребител беседа:Mmm-jun|беседа]]) 11:12, 6 февруари 2020 (UTC)
| |||